La compañía china Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) mostró un significativo avance en el campo de la fabricación de chips, al presentar su solicitud de patente para un equipo de litografía que es esencial para la industria, informó South China Morning Post.
Esta tecnología no solo representa un paso significativo hacia la autosuficiencia de China en este sector, sino que también es una muestra de cómo Pekín está sorteando las sanciones estadounidenses destinadas a obstaculizar sus objetivos.
De acuerdo con el medio, la patente para «generadores de radiación ultravioleta extrema (EUV) y equipos de litografía» fue solicitada en marzo de 2023, aunque esto solo se difundió la semana pasada. El documento está todavía en revisión por parte de la Administración Nacional de Propiedad Intelectual de China.
¿Fin del monopolio?
La patente es asimismo expresión de los progresos de SMEE en la litografía ultravioleta extrema (EUV), un campo que se considera el punto débil de este sector en China, dado que los semiconductores son necesarios para el desarrollo de tecnologías incipientes, como la inteligencia artificial, que demanda a ese respecto productos cada vez más avanzados.
«Los avanzados escáneres de ultravioleta extrema se consideran necesarios para la producción masiva de semiconductores de menos de 7 nanómetros, ya que proporcionan mejores rendimientos de producción, en términos del porcentaje de elementos no defectuosos elaborados en su fabricación», se informa.
Por su parte, la empresa ASML, con sede en los Países Bajos, tiene actualmente el monopolio en la fabricación en masa de equipos de litografía EUV, pero la exportación de sus productos a China está prohibida por sanciones impuestas por EE.UU. en 2019.
Así, con la aparición de esta tecnología propia en China, la distancia que separa a esa nación asiática de Estados Unidos y otros países líderes en semiconductores se está reduciendo, lo que probablemente debería preocupar a las autoridades de cada uno de ellos, que llevan años tratando de evitarlo.
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